Шановний користувач порталу!
Для вашої зручності ми запустили нову систему відображення формул в тексті. Дана система використовує найновіші технології. Якщо у вас виникли проблеми з відображенням формул спробуйте оновити свій веб-браузер до останньої версії. Або скористайтесь іншим браузером.

Команда проекту INFORUM.IN.UA пропонує використовувати для роботи з порталом браузер Mozilla Firefox.
Ми постійно вдосконалюємось та докладаємо максимум зусиль для Вашої комфортної роботи. Якщо у Вас є побажання чи ідеї з покращення роботи порталу напишіть нам.
УДК 53.096

ОСОБЛИВОСТІ МІЖДОЛИННОГО РОЗСІЯННЯ В n-Si В ТЕМПЕРАТУРНОМУ ІНТЕРВАЛІ 78-300 К

Захарчук Д.А.
Луцький національний технічний університет
Фесь І.А.
Луцький національний технічний університет

Розсіяння носіїв заряду в n-Si характеризується рядом особливостей, що пов’язано, в першу чергу, з суттєвою роллю міждолинного розсіяння. Міждолинне розсіяння в n-Si зумовлено переходами, котрі супроводжуються випромінюванням або поглинанням електроном фонона з високим значенням імпульсу, тобто фонона, з достатньо високою енергією, який може бути або акустичним, або оптичним. Тому міждолинне розсіяння може бути суттєвим лише при досить високих температурах [1].

З метою вияснення ролі f- і g-переходів у міждолинному розсіянні, досліджено ефект поздовжнього п’єзоопору, пов'язаний з міжмінімумним переселенням носіїв заряду при одновісній пружній деформації n-Si для випадку X||J||[100]. Результати дослідження п’єзоопору на кристалах n-Si, для яких в області температур 78-300К виконувались умови переважно фононного розсіяння () зображено на рис. 1.




Така поведінка залежностей fпояснюється різним внеском міждолинного розсіяння f-типу в чисельник (f) та знаменник (f) відношення f, а саме: при f, у чисельнику внесок міждолинного розсіяння виявляється повністю виключеним у досліджуваному температурному інтервалі внаслідок повного переселення електронів у мінімуми, які опускаються при одновісній деформації у напрямку [100], тоді як внесок міждолинного розсіяння в fзі збільшенням температури тільки зростає.

Крім того, наявність міждолинного розсіяння призводить до зменшення значень Х, при яких спостерігається вихід на насичення залежностей f з ростом температури, а залежності f, якими користуються для визначення константи деформаційного потенціалу f стають нелінійними при даних температурах [2]. Виникають труднощі також при визначенні параметру анізотропії К в області f на основі вимірювання лише значень поздовжнього п’єзоопору (f). Враховуючи вищезазначене, є підстави вважати, що міждолинне розсіяння в n-Si суттєво впливає на больцманівський перерозподіл носіїв між долинами, що опускаються та піднімаються при одновісній пружній деформації.

Тому для визначення параметрів анізотропії f і f в широкій області температур, крім значень поздовжнього п’єзоопору f, необхідні вимірювання й поперечного п’єзоопору f, в області насичення. Відповідні дослідження показали, що при умові переважаючого акустичного розсіяння при температурі 78 К зміна даних пераметрів, визначених обома методами, несуттєва, і не виходить за межі точності експерименту, що узгоджується з висновками теорії анізотропного розсіювання.

 

1. Баранский П.І., Федосов А.В., Гайдар Г.П. Фізичні властивості кристалів кремнію та германію в полях ефективного зовнішнього впливу. - Луцьк. “Надстир’я”, 2000.- 280 c.

2. Баранский П.И., Буда И.С., Даховский И.В., Коломоец В.В. Электрические и гальваномагнитные явления в анизотропных полупроводниках. – К.: Наукова думка, 1977. – 269с.

Коментарі до статті:
© inforum.in.ua, 2014 - 2024
Розробка : Limpopo Web Agency
+38 (068) 322 72 67
+38 (093) 391 11 36
43020, УКРАЇНА,
Волинська обл., м. Луцьк,
вул. Електроапаратна, 3 / 336
inforum.in.ua@ukr.net